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融合配件-融合電極

融合配件-融合電極

更新時(shí)間:2024-02-22

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廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家

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簡(jiǎn)要描述:
融合配件-融合電極由載玻片和不銹鋼電極組成,主要用于動(dòng)物細胞和原生質(zhì)體的融合、胚胎操作,整個(gè)融合過(guò)程可在顯微鏡下觀(guān)察。


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融合配件-融合電極由載玻片和不銹鋼電極組成,主要用于動(dòng)物細胞和原生質(zhì)體的融合、胚胎操作,整個(gè)融合過(guò)程可在顯微鏡下觀(guān)察。


融合配件-融合電極技術(shù)規格:電壓范圍0-500V直流電,脈沖時(shí)間1μs-99ms,脈沖數1-99
兼容性: BLS 細胞融合儀CF-150B,CF-150C,ECM830,ECM2001

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Meander Fusion Chamber
曲流融合室 特別為細胞融合設計的結構,鍍銀的導電性金屬合金以手指狀突起陣列融化在玻璃纖維載玻片上,提供不均勻電場(chǎng),電極間距為0.2mm,構成高精度的工作區域,建議容量5-20µl。細胞融合過(guò)程可在顯微鏡下觀(guān)察,電極可經(jīng)溫和試劑的清洗重復使用。
技術(shù)規格:電壓范圍0-480V直流電,0-16V交流電,脈沖時(shí)間1 µsec - 99 msec,脈沖數1-99
兼容性:ECM2001


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Flat Electrode Chamber  扁平電極 由兩塊平行帶凹槽的長(cháng)方形不銹鋼壓制于聚砜樹(shù)脂中構成,既可用于細胞的電穿孔又可用于細胞電融合:當凹槽電極的兩凹槽相對時(shí),可產(chǎn)生不均勻電場(chǎng)用于細胞電融合;當凹槽的兩個(gè)平端相對時(shí),產(chǎn)生均勻電場(chǎng)用于細胞電穿孔。電極間距1mm,容積0.5ml。 技術(shù)規格:電壓范圍0-480V直流電,0-16V交流電

兼容性:ECM830,ECM2001


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